Китай начал производство разработанных внутри страны иммерсионных DUV-литографических установок, которые являются ключевым оборудованием для выпуска микросхем. Первые машины до конца года планируется поставить крупнейшим китайским производителям чипов, включая SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies.
DUV-установки долгое время поставляла преимущественно нидерландская ASML, однако после введения экспортных ограничений китайские компании лишились доступа к наиболее современным EUV-системам. По информации источников, китайская разработка может стать альтернативой зарубежному оборудованию на внутреннем рынке.
При этом новая система пока уступает зарубежным аналогам по производительности и надежности и нуждается в дополнительных испытаниях перед массовым внедрением. В этом году планируется выпустить около пяти машин, а в 2027 году объем производства может увеличиться примерно до 20 установок.
Китай также продолжает разработку собственной EUV-литографической машины, однако этот проект пока находится на стадии прототипа.
После публикации информации акции ASML снизились на 4,6%, а аналитики связывают интерес к китайской разработке с возможным дальнейшим ужесточением американских ограничений на поставки и обслуживание литографического оборудования в Китае.




















